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반도체 장비 시설 운영14

[STEP 한국기술대학] 반도체 장비 시설 운영 Part 1. - (2) 클린룸 설비구조 반도체 장비 시설 운영 Part 1.(2) 클린룸 설비구조반도체설비 클린룸의 일반적 구조 1. 반도체 FAB 공정  1) FAB의 정의  - Fabrication Facility의 약자로 일종의 실리콘 웨이퍼 제조 공장을 말함   - 먼지와 소음, 자장 등으로부터 적절하게 보호   - 용도에 맞게 제어할 수 있는 실험실을 팹(FAB)이라고 부르기도 함   - FAB = 클린룸 = 청정실   2) FAB의 공정   -> 학부시절 진행했던 Perovskite Solar Cell 의 제작 과정과 크게 다르지 않다. 2. 반도체 FAB 구성 - 클린룸 본실, 공조 솔비, 유틸리티 설비, 부속 설비, 배기 설비 등 5가지로 구성됨 주요시설 및 장비 소개 1. 클린룸 본실  1) 반도체 장비 공정  - 셀 제조 공.. 2024. 6. 23.
[STEP 한국기술대학] 반도체 장비 시설 운영 Part 1. - (1) 클린룸 개요 반도체 장비 시설 운영 Part 1.(1) 클린룸 개요 클린룸의 정의 및 분류 1. 클린룸의 정의 - 공기 부유입자의 농도를 일정한 수치 이하로 제어, 입자의 유입, 생성 및 체류를 최소화한 공간  - 온도, 습도, 압력 등이 필요에 맞게 일정하게 제어되는 공간  2. 클린룸의 분류 1) 산업용 클린룸(ICR, Industrial Clean Room)  - 전자공장이나 정밀기계공장에서 생산 공정의 청정 환경을 위해 사용되는 클린룸  - 시스템에 대한 정밀화, 소형화, 고품질, 고신뢰성을 확보  2) 바이오 클린룸(BCR, Biological Clean Room) - 제약공장, 식품공장, 병원 등에서 제품의 오염 방지, 변질 방지 및 환자의 감염 방지를 위해 사용되는 클린룸- 무균에 가까운 상태가 요구 되.. 2024. 6. 23.
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