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반도체 장비 시설 운영14

[STEP 한국기술대학] 반도체 장비 시설 운영 Part 2. - (3) DI Water 공급장치 반도체 장비 시설 운영 Part 2.(3) DI Water 공급장치DI Water 공급장치 특징 및 구조 1. DI Water의 개념 1) DI Water의 정의• 전기전도율이 매우 낮아 전기비저항이 보통 10~15MΩ 이상• 물 속에 있는 극미량의 이온들도 거의 제거되어 전기저항 값이 18.3kΩ이 될 정도로 초순수한 상태• 원수의 종류로는 하천수, 지하수, 호소수, 수도수, 공업용수가 있음• DI Water 순수(Pure Water)의 순도를 넘어서 불순물인 이온이나 미소입자상 물질이 더 많이 제거된 물 초순수 : 불순물이 이온을 제거한 높은 순도의 물 UPW(Ultra Pure Water) 또는 DIW(De-Ionized Water) 2) DI Water의 용도• 반도체산업, 전자산업, 식품제조, .. 2024. 6. 25.
[STEP 한국기술대학] 반도체 장비 시설 운영 Part 2. - (2) PCW 장치 / Process Cooling Water 반도체 장비 시설 운영 Part 2.(2) PCW 장치PCW 장치 특징 및 구조 1. 냉동과 PCW의 개념 • 냉동(Refrigeration)어떤 물체의 온도를 인위적으로 주위온도보다 낮게 유지시켜서 차갑게(Chilled) 하거나 얼리는 것(Freeze) • 냉동기(Chiller) • PCW(Process Cooling Water) PCW 장치는 공정 냉각수를 만들어 주는 냉동기의 한 종류 2. 냉동 사이클과 냉동기의 동작원리 1) 냉동 사이클(Cycle)• 냉동 사이클을 이용하여 다양한 용도로 냉각 효과 활용• 공조설비나 다양한 냉동기 장비들을 다룰 때 기본적으로 다루어짐 냉동 사이클에 의해서 용도에 맞게 각 장비들의 내부 부품 구성 냉동기 장비들의 내부 구성도 및 동작원리 확인 시 매우 중요한 성분 .. 2024. 6. 25.
[STEP 한국기술대학] 반도체 장비 시설 운영 Part 2. - (1) 유틸리티 설비 개요 반도체 장비 시설 운영 Part 2.(1) 유틸리티 설비 개요반도체 공정 유틸리티 개요 1. 유틸리티의 정의와 기능 • 유틸리티(Utility)• 클린룸 내부의 생산장비 및 지원 시스템이 정상적으로 운전될 수 있도록 공급되거나 배출되는 매체  2. 유틸리티의 종류와 용도1) 가스 2) 화학물질(Chemical) 3) 진공(Vacuum)4) 물(Water)5) 전원(Power)6) 배기(Exhaust)7) 배수(Drain) 3. 유틸리티의 공급 배관 재질 조건• 유틸리티 배관의 재질은 상황에 따라 성능이 달라져야 함 1) 생산제품에 직접적으로 영향을 미치는 경우• 가스, 화학물질, DI Water- 고순도 및 내화학성이 요구되는 고순도 자재로, SUS 316LEP/BA 또는 PVDF/PFA 등 사용 2) .. 2024. 6. 25.
[STEP 한국기술대학] 반도체 장비 시설 운영 Part 1. - (12) 클린룸 환경관리 반도체 장비 시설 운영 Part 1.(12) 클린룸 환경관리클린룸 오염환경 1. 파티클(Particle) • 파티클(Particle) - 공기 혹은 가스나 액체에 존재하는 고체성 물질  - 1μm보다 큰 것은 미립자(Dust), 1μm보다 작은 것은 먼지 - 보통 클린룸 설비 관련해서는 편의상 먼지, 또는 입자라 부름  - 1μm = 10-6 m = 1/1,000,000m  - 연기/안개 = 1.0μm, 미세 스프레이 최소 방울 = 10μm, 머리카락 = 100μm • 파티클(먼지)의 크기 - 직경을 고려하여 가장 긴 쪽을 먼지 크기로 정의  - 0.1μm, 0.3μm, 0.5μm, 1μm, 3μm, 5μm 등으로 분류 1) 파티클(먼지) 개수 측정• 파티클 카운터(Particle Counter) - 대.. 2024. 6. 24.
[STEP 한국기술대학] 반도체 장비 시설 운영 Part 1. - (11) 클린룸 공정실관리 반도체 장비 시설 운영 Part 1.(11) 클린룸 공정실관리클린룸 인적관리 1. 사람에 의한 오염 발생 1) 일반 공간 내 행동 2) 화장품에 의한 먼지 발생 3) 상태에 의한 먼지 발생 4) 공정실 내 행동에 의한 먼지 발생 2. 클린룸 공정실에서의 행동요령 1) 공정실 입실 전 행동요령 • 규정된 방진의복 착용, 방진복 착용 상태 항상 확인• 1회용 방진의류는 재사용하지 않음• 반드시 에어샤워를 통해 입실• 입실 전 화장, 매니큐어 지우기• 반입하는 모든 물품은 먼지를 털어내고 닦아냄• 흡연, 껌 또는 음식물 반입 및 섭취 금지• 필요한 서류는 코팅 또는 밀봉해서 반입 2) 공정실에서의 행동 요령 • 공정실에 있는 동안 모든 방진의류는 완전한 상태를 유지한 채 착복할 것• 불필요한 대화 또는 말하지.. 2024. 6. 24.
[STEP 한국기술대학] 반도체 장비 시설 운영 Part 1. - (10) 클린룸 운영관리 반도체 장비 시설 운영 Part 1.(10) 클린룸 운영관리클린룸 유지관리 개요 1. 클린룸 유지관리 항목 분류 2. 클린룸 유지관리 기본 원칙 1) 유입침투 방지 • 오염물질(먼지) 유입 차단 - 사람은 에어샤워(Air Shower)를 통하여 클린룸에 입실 - 물품은 패스박스(Pass Box)를 통하여 반입 - 사람 출입구 및 물품 반입구는 이중문을 사용 - 설비 및 원·부자재 반입시 오염물질 제거 작업 실시 - 클린룸에 필터(Filter)로 여과된 청정공기의 공급 - 클린룸의 정압 유지 - 덕트에서의 청정공기 누설방지 2) 발생 방지• 오염물질(먼지) 발생 차단 - 청정실용 방진의복 착용 - 청정 필기구 사용(무진 종이, 무진 볼펜 등) - 저발진성 재료 사용 - 클린룸에서 불필요한 말, 행동 금지 .. 2024. 6. 24.
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