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반도체 장비 시설 운영 Part 2.(3) DI Water 공급장치DI Water 공급장치 특징 및 구조 1. DI Water의 개념 1) DI Water의 정의• 전기전도율이 매우 낮아 전기비저항이 보통 10~15MΩ 이상• 물 속에 있는 극미량의 이온들도 거의 제거되어 전기저항 값이 18.3kΩ이 될 정도로 초순수한 상태• 원수의 종류로는 하천수, 지하수, 호소수, 수도수, 공업용수가 있음• DI Water 순수(Pure Water)의 순도를 넘어서 불순물인 이온이나 미소입자상 물질이 더 많이 제거된 물 초순수 : 불순물이 이온을 제거한 높은 순도의 물 UPW(Ultra Pure Water) 또는 DIW(De-Ionized Water) 2) DI Water의 용도• 반도체산업, 전자산업, 식품제조, ..

반도체 장비 시설 운영 Part 2.(2) PCW 장치PCW 장치 특징 및 구조 1. 냉동과 PCW의 개념 • 냉동(Refrigeration)어떤 물체의 온도를 인위적으로 주위온도보다 낮게 유지시켜서 차갑게(Chilled) 하거나 얼리는 것(Freeze) • 냉동기(Chiller) • PCW(Process Cooling Water) PCW 장치는 공정 냉각수를 만들어 주는 냉동기의 한 종류 2. 냉동 사이클과 냉동기의 동작원리 1) 냉동 사이클(Cycle)• 냉동 사이클을 이용하여 다양한 용도로 냉각 효과 활용• 공조설비나 다양한 냉동기 장비들을 다룰 때 기본적으로 다루어짐 냉동 사이클에 의해서 용도에 맞게 각 장비들의 내부 부품 구성 냉동기 장비들의 내부 구성도 및 동작원리 확인 시 매우 중요한 성분 ..

반도체 장비 시설 운영 Part 2.(1) 유틸리티 설비 개요반도체 공정 유틸리티 개요 1. 유틸리티의 정의와 기능 • 유틸리티(Utility)• 클린룸 내부의 생산장비 및 지원 시스템이 정상적으로 운전될 수 있도록 공급되거나 배출되는 매체  2. 유틸리티의 종류와 용도1) 가스 2) 화학물질(Chemical) 3) 진공(Vacuum)4) 물(Water)5) 전원(Power)6) 배기(Exhaust)7) 배수(Drain) 3. 유틸리티의 공급 배관 재질 조건• 유틸리티 배관의 재질은 상황에 따라 성능이 달라져야 함 1) 생산제품에 직접적으로 영향을 미치는 경우• 가스, 화학물질, DI Water- 고순도 및 내화학성이 요구되는 고순도 자재로, SUS 316LEP/BA 또는 PVDF/PFA 등 사용 2) ..

반도체 장비 시설 운영 Part 1.(12) 클린룸 환경관리클린룸 오염환경 1. 파티클(Particle) • 파티클(Particle) - 공기 혹은 가스나 액체에 존재하는 고체성 물질  - 1μm보다 큰 것은 미립자(Dust), 1μm보다 작은 것은 먼지 - 보통 클린룸 설비 관련해서는 편의상 먼지, 또는 입자라 부름  - 1μm = 10-6 m = 1/1,000,000m  - 연기/안개 = 1.0μm, 미세 스프레이 최소 방울 = 10μm, 머리카락 = 100μm • 파티클(먼지)의 크기 - 직경을 고려하여 가장 긴 쪽을 먼지 크기로 정의  - 0.1μm, 0.3μm, 0.5μm, 1μm, 3μm, 5μm 등으로 분류 1) 파티클(먼지) 개수 측정• 파티클 카운터(Particle Counter) - 대..

반도체 장비 시설 운영 Part 1.(11) 클린룸 공정실관리클린룸 인적관리 1. 사람에 의한 오염 발생 1) 일반 공간 내 행동 2) 화장품에 의한 먼지 발생 3) 상태에 의한 먼지 발생 4) 공정실 내 행동에 의한 먼지 발생 2. 클린룸 공정실에서의 행동요령 1) 공정실 입실 전 행동요령 • 규정된 방진의복 착용, 방진복 착용 상태 항상 확인• 1회용 방진의류는 재사용하지 않음• 반드시 에어샤워를 통해 입실• 입실 전 화장, 매니큐어 지우기• 반입하는 모든 물품은 먼지를 털어내고 닦아냄• 흡연, 껌 또는 음식물 반입 및 섭취 금지• 필요한 서류는 코팅 또는 밀봉해서 반입 2) 공정실에서의 행동 요령 • 공정실에 있는 동안 모든 방진의류는 완전한 상태를 유지한 채 착복할 것• 불필요한 대화 또는 말하지..

반도체 장비 시설 운영 Part 1.(10) 클린룸 운영관리클린룸 유지관리 개요 1. 클린룸 유지관리 항목 분류 2. 클린룸 유지관리 기본 원칙 1) 유입침투 방지 • 오염물질(먼지) 유입 차단 - 사람은 에어샤워(Air Shower)를 통하여 클린룸에 입실 - 물품은 패스박스(Pass Box)를 통하여 반입 - 사람 출입구 및 물품 반입구는 이중문을 사용 - 설비 및 원·부자재 반입시 오염물질 제거 작업 실시 - 클린룸에 필터(Filter)로 여과된 청정공기의 공급 - 클린룸의 정압 유지 - 덕트에서의 청정공기 누설방지 2) 발생 방지• 오염물질(먼지) 발생 차단 - 청정실용 방진의복 착용 - 청정 필기구 사용(무진 종이, 무진 볼펜 등) - 저발진성 재료 사용 - 클린룸에서 불필요한 말, 행동 금지 ..

반도체 장비 시설 운영 Part 1.(8) 클린룸 부속장치패스박스 1. 패스박스의 기능 • 패스박스(Pass Box) - 클린룸과 외부 또는 청정도가 서로 다른 구역과의 경계에 설치 - 사람이 출입하지 않고도 물품의 출입을 가능하게 함 - 오염공기의 유입이나 청정공기의 유출을 막음 2. 패스박스의 종류 1) 표준형 패스박스• 클린룸용으로 제일 많이 사용• Interlock- 한쪽의 문을 열면 반대측의 문이 열리지 않음• UV Lamp- 물품의 표면에 쬐어 살균 2) 에어샤워형 패스박스• 초속 이상의 풍속으로 청정공기를 쏘여 표면에 부착된 분진입자 제거• 오염 공기를 흡입구로부터 저성능 필터와 고성능 필터를 거쳐 정화한 후 토출 노즐로서 뿜어내며 순환 3. 패스박스의 구조 1) 표준형 패스박스의 구조2) ..

반도체 장비 시설 운영 Part 1.(7) 클린룸 클린장치스목룸(Smock Room) 1. 스목룸 기능 및 구성• 스목룸(Smock Boom) - 클린룸 입실 전에 작업에 필요한 옷(방진의류)으로 환복하는 공간 - 클린룸 입실 전에 처음으로, 반드시 들르는 공간 2. 클린 락커 (Clean Locker)• 방진복을 비치하는 공간 - 방진복에 묻어있는 각종 오염물질 제거  1) 클린 락커 구성 • 프레임,팬 모터, 제어반, 필터(저성능 필터,중성능 필터, 고성능 필터, 필터 팬 유닛)  2) 클린 락커 동작 흐름 • 클린룸 내부의 청정도 유지를 위한 사전 오염물질 제거  3. 방진 의류• 사람의 몸으로부터 나오게 되는 머리카락, 비듬, 침, 피부 분진 등이   클린룸 내부에서 발생되지 않도록 사전에 방지하..

반도체 장비 시설 운영 Part 1.(6) 클린룸 에어필터에어필터의 개요 1. 에어필터의 기능과 사용범위 1) 에어필터 • 어떠한 유체(공기, 기름, 연료, 물 등)를 일정한 시간 내에 일정한 용량을 일정한 크기의 입자로 통과시키는 장치 • 대기 중에 존재하는 분진을 제거하여 필요에 맞는 청정한 공기를 만들어냄 2) 에어필터의 사용범위 2. 에어필터의 구조 1) 프레임(외곽틀)• 합관, 알루미늄 및 강판, 스테인리스강, 플라스틱류 등 사용 2) 여과재(여재)• 유리섬유, 부직포 등 사용 3) 밀봉제• 여과재 전체와 외곽틀 사이를 밀봉하는 재료• 우레탄계, 네오프렌계, 에폭시계 등의 자기소화성 재료 사용 4) 가스킷(Gasket)• 코르크류, 고무합성품류, 네오프렌계 스펀지류 등 사용 5) 분리판• 분리판..

반도체 장비 시설 운영 Part 1.(5) 공조기 자동제어자동제어 개요 1. 자동제어 구성 기초 요소  1) 시퀀스 제어 (sequence control)   •  제어동작이 정해진 순서에 따라 순차적으로 진행  • 수관식 보일러의 연소안전장치 (프리퍼지, 연료 및 공기 공급, 착화, 연소)등과 같이 출력과 무관하게     진행 장비를 작동 시킬 때 장비특성에 알맞도록 짜여지는 작동 프로그램  2) 피드백 제어 (feedback control) • 되돌림 제어라고 하며 출력값을 입력값과 비교하여 출력값을 설정한 목표값에 도달하도록 제어 • 정해진 목표값을 유지하도록 입력값과 출력값을 계속 비교하여 조작량을 제어대상에 보내는 것 (온도, 압력, 수위, 제어 등) • 폐쇄 루프 제어(Closed Loop C..