archive freedom

  • 홈
  • 태그

클린룸 유지관리 1

[STEP 한국기술대학] 반도체 장비 시설 운영 Part 1. - (10) 클린룸 운영관리

반도체 장비 시설 운영 Part 1.(10) 클린룸 운영관리클린룸 유지관리 개요 1. 클린룸 유지관리 항목 분류 2. 클린룸 유지관리 기본 원칙 1) 유입침투 방지 • 오염물질(먼지) 유입 차단 - 사람은 에어샤워(Air Shower)를 통하여 클린룸에 입실 - 물품은 패스박스(Pass Box)를 통하여 반입 - 사람 출입구 및 물품 반입구는 이중문을 사용 - 설비 및 원·부자재 반입시 오염물질 제거 작업 실시 - 클린룸에 필터(Filter)로 여과된 청정공기의 공급 - 클린룸의 정압 유지 - 덕트에서의 청정공기 누설방지 2) 발생 방지• 오염물질(먼지) 발생 차단 - 청정실용 방진의복 착용 - 청정 필기구 사용(무진 종이, 무진 볼펜 등) - 저발진성 재료 사용 - 클린룸에서 불필요한 말, 행동 금지 ..

반도체/반도체 장비 시설 운영 Part 1 2024.06.24
이전
1
다음
더보기
프로필사진

archive freedom

지식과 생각을 나누는 공간

  • 분류 전체보기 (125)
    • 철학 (0)
    • 디자인 (0)
    • 재테크 (3)
      • 금융지식 (1)
      • 국내주식 (1)
      • 해외주식 (1)
    • 어학 (2)
      • TOEIC (1)
      • OPIc (1)
    • 컴퓨터 & 데이터 (10)
      • Spotfire (4)
      • ADsP (2)
      • SQLD (1)
      • 컴퓨터활용능력 (2)
      • Python (1)
    • 반도체 (109)
      • 반도체 뉴스룸 (28)
      • 반도체 8대 공정 (9)
      • 반도체 전공정 (6)
      • 반도체 후공정 (11)
      • 반도체 제조 공정 장비 운영 (16)
      • 반도체 장비 시설 운영 Part 1 (12)
      • 반도체 장비 시설 운영 Part 2 (3)
      • 반도체 차세대 패키지 (1)
      • 반도체 Defect (1)
      • 반도체 용어 (13)
      • 기타 반도체 관련 지식 (2)
      • 8대공정 MOSFET 체험 (4)
      • Photo Lithography (2)
      • XRD & XPS (1)

Tag

HBM, 포토공정, TSV, 삼성전자, 반도체 뉴스, 반도체 전공정, 반도체뉴스, 반도체, hbm3e, 삼성전자 뉴스, 삼성전자반도체, 삼성전자 뉴스룸, 반도체 장비 시설 운영, 삼성전자뉴스룸, 반도체8대공정, 반도체 제조 공정 장비 운영, spotfire, 반도체 후공정, sk하이닉스뉴스룸, CXL,

최근글과 인기글

  • 최근글
  • 인기글

최근댓글

공지사항

페이스북 트위터 플러그인

  • Facebook
  • Twitter

Archives

Calendar

«   2025/05   »
일 월 화 수 목 금 토
1 2 3
4 5 6 7 8 9 10
11 12 13 14 15 16 17
18 19 20 21 22 23 24
25 26 27 28 29 30 31

방문자수Total

  • Today :
  • Yesterday :

티스토리툴바